Objectiu rodó de titani

Un objectiu de recobriment és una font de pulverització catòdicada sobre un substrat per formar pel·lícules funcionals mitjançant la pulverització de magnetrons o altres sistemes de recobriment en condicions de procés adequades. És a dir, el material objectiu és el material objectiu del bombardeig de partícules d'energia de càrrega d'alta velocitat, utilitzat en armes làser d'alta energia, diferents densitats de potència, diferents formes d'ona de sortida, diferents longituds d'ona de làser i diferents interaccions de material objectiu, produirà diferents efectes mortals i perjudicials.

La fabricació d'objectius de pols de titani inclou la preparació de pols de matèria primera, preescalfament, premsat en calent, processament i tractament de superfícies. La preparació de matèries primeres és la clau per garantir la qualitat dels objectius de titani. El preescalfament i el premsat en calent són passos importants del procés per a la fabricació d'objectius de polverització de titani, mitjançant els quals s'obtenen materials uniformes i densos per garantir les propietats físiques i químiques dels objectius. El processament inclou el tall, la conformació i el poliment. El tractament de superfícies inclou neteja, passivació, embalatge, etc.

Equipat amb un procés avançat, que té un servei més llarg. A causa del seu alt rendiment, l'objectiu rodó de titani té un paper important en dispositius de separació de semiconductors, pantalles de pantalla plana, pel·lícules d'elèctrodes d'emmagatzematge, recobriment de peces, indústria de recobriments de vidre, etc.

L'objectiu rodó de titani té una àmplia gamma d'usos a causa de la gran bretxa de banda, la baixa constant dielèctrica i l'estabilitat de la temperatura. La pel·lícula fina es prepara principalment mitjançant sputtering de magnetró, en què el material objectiu és una matèria primera bàsica important en el procés de recobriment de sputtering. Equipat amb una tecnologia de polvorització de plasma excel·lent i supersònica, té una temperatura de font de calor elevada i una atmosfera d'aire inert. La distància de polvorització és petita. Les partícules volen en el raig de plasma a gran velocitat, amb menys probabilitats d'oxidar-se en el medi, amb avantatges per polvoritzar pols de titani fàcilment oxidable.

Alt punt de fusió: el punt de fusió del titani és de 1668 graus, de manera que l'objectiu de titani té un excel·lent rendiment a alta temperatura.

Bona resistència a la corrosió: el titani té una bona resistència a la corrosió i pot resistir la corrosió d'àcids, àlcalis i altres substàncies químiques, de manera que es pot utilitzar en galvanoplastia, electròlisi, recobriment al buit i altres indústries.

Bona estabilitat: el titani és més estable químicament i pot mantenir un rendiment estable en ambients d'alta temperatura, alta pressió i gas inert, de manera que es pot utilitzar per preparar alguns materials a alta temperatura, alta pressió i gas inert.

Bona conductivitat elèctrica: l'objectiu de titani és un bon conductor elèctric, de manera que es pot utilitzar per preparar components electrònics, cèl·lules fotovoltaiques, dispositius microelectrònics, etc. Aplicació: separació de semiconductors, materials de recobriment de pel·lícules, recobriment d'elèctrodes d'emmagatzematge, recobriment de pulverització, recobriment superficial, ulleres , electrònica, optoelectrònica, tecnologia de la informació, química, medicina i aeroespacial.

Etiquetes populars: objectiu rodó de titani, fabricants, proveïdors, fàbrica de objectiu rodó de titani de la Xina